正点平台注册

正点平台注册
Company Profile
正点平台注册ALD实现高质量依(Ir)单质沉积
分类:正点平台注册  14269次浏览  发表时间:2019-1-10 09:23:39

正点平台注册ALD实现高质量(Ir)单质沉积

 

  金属铱单质在光学器件、催化等领域具有广泛的应用前果。正点平台注册电子利用PE-ALD设备攻克了铱源前驱体不易扩散等难点,成功实现高质量单质铱SEM结果显示(Ir)镀膜均匀,无空隙,完全满足高端用户的需求。

 

SEM 50K:ALD Ir thin film  

 PEALD设备